Advantest präsentiert Elektronenstrahllithografie-Lösungen auf der 45. Micro & Nanoengineering (MNE) Show in Rhodos, Griechenland vom 23. bis 26. September

MÜNCHEN, Deutschland, Sept. 18, 2019 (GLOBE NEWSWIRE) -- Der führende Anbieter von Halbleitertestgeräten Advantest Corporation (TSE: 6857) wird sein Elektronenstrahllithografiesystem F7000 und die dazugehörigen Messgeräte in Halle A, Stand #7 auf der 45.Konferenz für Mikro- und Nanotechnik (MNE) vom 23. bis 26. September im Rodos Palace Hotel in Rhodos, Griechenland, vorstellen.

Nach 11 Jahren kehrt die MNE-Konferenz nach Griechenland zurück und ist die wichtigste internationale Veranstaltung, die sich auf Mikro-/Nanofertigungs- und Fertigungstechniken sowie Anwendungen von hergestellten Mikro-/Nanostrukturen, Geräten und Mikrosystemen in den Bereichen Elektronik, Photonik, Energie, Umwelt, Chemie und Life Sciences konzentriert. Die Konferenz umfasst vier parallele Sitzungen, Plenarvorträge, eingeladene Präsentationen, Vorträge und Posterpräsentationen sowie eine kommerzielle Ausstellung.

Advantest präsentiert auf seinem Stand das Lithografiesystem F7000 EB, das einen hohen Durchsatz und eine hervorragende Auflösung sowie die Möglichkeit bietet, sehr genaue und glatte Nanomuster auf Wafern für den 1X-nm-Technologieknoten zu erzeugen.  Durch seine Charakterprojektions- und Direktschreibtechnologie eignet er sich hervorragend als Designwerkzeug für FuE und Prototyping sowie als Lösung für LSI Industries-Produktionslinien, in denen Kleinserien-Multiplexgeräte hergestellt werden.

Das Portfolio der Nanotechnologie-Lösungen von Advantest umfasst mehrere weitere Messtechnikprodukte, darunter eine Familie von Multivisionsmesstechnik-Rasterelektronenmikroskopen (MVM-SEM®), die eine Echtzeit-, 3D-Messung und Bildgebung von Wafern und Photomasken ermöglichen.  Das in diesem Jahr eingeführte MVM-SEM-System E3650 Mask bietet die branchenweit beste Mustermessungsfunktion und den höchsten Durchsatz für Anwendungen wie erweiterte Fotomasken, EUV-Fotomasken und NIL-Vorlagen.  Das Maskenfehler-Rasterelektronenmikroskop E5610 (DR-SEM) des Unternehmens wurde für die Überprüfung und Klassifizierung kleinster Defekte in Fotomasken und Rohlingen der nächsten Generation entwickelt.  Es bietet eine hochstabile, vollautomatische Bilderfassung mit der langfristigen Betriebsstabilität und Zuverlässigkeit, die für die Fertigungsanalyse kritischer Masken unerlässlich ist.

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Über Advantest Corporation
Advantest ist ein weltweit führendes Technologieunternehmen und führender Hersteller von automatischen Prüfgeräten (ATE) für die Halbleiterindustrie sowie ein führender Hersteller von Messgeräten für die Entwicklung und Herstellung von elektronischen Geräten und Systemen.  Seine hochmodernen Systeme und Produkte sind in die modernsten Halbleiterproduktionslinien der Welt integriert.  Das Unternehmen konzentriert sich außerdem auf die Forschung und Entwicklung für neue Märkte, die von Fortschritten bei Nanotech- und Terahertz-Technologien profitieren, und hat Multivision-Metrologie-Scanning-Elektronenmikroskope, die essentiell für die Herstellung von Fotomasken sind, sowie bahnbrechende Instrumente für 3D-Bildgebung und -Analyse entwickelt.  Advantest wurde 1954 in Tokio gegründet und eröffnete seine erste Niederlassung 1982 in den USA. Mittlerweile unterhält das Unternehmen Niederlassungen weltweit.  Weitere Informationen finden Sie unter www.advantest.com.

ADVANTEST CORPORATION
3061 Zanker Road
San Jose, CA 95134, USA
Judy Davies
Judy.davies@advantest.com